• 产品概述
  • 磁控溅射电源原理

    磁控溅射电源的阳极、阴极分别连接做基体和靶材上,将一个强烈磁控管装置做靶材后部。当镀膜室被抽成真空状态时,充入一下氩气等惰性气体,镀膜室内的高压将氩原子电离成电子和氩离子,形成等离子异常辉光放电。电离出来的电子在高压电场的作用下,做加速运动,不断与氩原子发生强烈碰撞,这样产生许多二次电子和氩离子。电子经过多次碰撞,电子的动能就会降低,从而脱离了磁力线的束缚,最终落在镀膜室内壁、阳极和集体上。氩原子受到多次氩离子碰撞,得到了大量动能,从而脱离了原来晶格束缚,飞向基片,从而大量的靶材原子积累在基体表面、沉积形成薄膜。组成靶材各种材料都可以成为阴极靶,用来进行溅射镀膜。当靶材的材料不同时,磁控溅射工艺对电源输出特性也不尽相同。

    特点

    适用于真空磁控溅射,可以根据真空设备与溅射要求设定电流、电压阈值, 工作频率、输出极性、工作模式;

    本电源能实现交直流切换输出;稳流稳压多种模式切换;

    中频、偏压两种编程输出;输出剥削可以设置实现正弦、脉冲方波、三角波、 梯形波等多种波形。

    参数

    输入电压:市电AC380V±10% 

    输出功率范围:0~—80kW 

    输出电压范围:0~±5000V 

    输出电流范围:0~±100A 

    脉冲频率范围:0~—50Hz



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